Kristallwachstum

Kristallwachstum

Das Wachstum von Verbindungshalbleiterkristallen

Verbundhalbleiter sind im Vergleich zur ersten Generation von Halbleitermaterialien die zweite Generation von Halbleitermaterialien mit optischem Übergang, hoher Elektronensättigungsdriftrate und hoher Temperaturbeständigkeit, Strahlungsbeständigkeit und anderen Eigenschaften in Ultrahochgeschwindigkeit und Ultrahochgeschwindigkeit Frequenz, geringer Stromverbrauch, geringes Rauschen und Schaltungen, insbesondere optoelektronische Geräte und fotoelektrische Speicher, weisen einzigartige Vorteile auf, von denen GaAs und InP die repräsentativsten sind.

Das Wachstum von Verbindungshalbleiter-Einkristallen (wie GaAs, InP usw.) erfordert äußerst strenge Umgebungen, einschließlich Temperatur, Reinheit des Rohmaterials und Reinheit des Wachstumsgefäßes.PBN ist derzeit ein ideales Gefäß für das Wachstum von Verbindungshalbleiter-Einkristallen.Derzeit umfassen die Methoden zum Züchten von Verbindungshalbleiter-Einkristallen hauptsächlich die Liquid-Seal-Direct-Pull-Methode (LEC) und die Vertical-Gradient-Solidification-Methode (VGF), entsprechend den Tiegelprodukten der Boyu VGF- und LEC-Serie.

Kristallwachstum

Im Prozess der polykristallinen Synthese muss der Behälter zur Aufnahme von elementarem Gallium bei hohen Temperaturen frei von Verformungen und Rissen sein. Dies erfordert eine hohe Reinheit des Behälters, keine Einführung von Verunreinigungen und eine lange Lebensdauer.PBN kann alle oben genannten Anforderungen erfüllen und ist ein ideales Reaktionsgefäß für die polykristalline Synthese.Die Boyu PBN-Bootsserie ist in dieser Technologie weit verbreitet.

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